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实现7nm光刻机技术距离，中国半导体企业面临着关键核心技术的困境。7nm制程的研发需要突破多个关键技术，其中最核心的就是光刻机。目前，世界上能够生产7nm光刻机的只有极少数企业，主要集中在欧美日韩等国。与之相比，中国的半导体企业在自主开发和研制高端光刻机方面仍处于起步阶段，无法满足7nm制程的需求。因此，中国在核心技术方面的短板制约了7nm技术的发展。

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